[发明专利]一种伽玛射线探测成像的方法及装置无效
申请号: | 200410030646.0 | 申请日: | 2004-04-02 |
公开(公告)号: | CN1564022A | 公开(公告)日: | 2005-01-12 |
发明(设计)人: | 谢舒平;刘亚强;谢立平 | 申请(专利权)人: | 谢舒平;刘亚强;谢立平 |
主分类号: | G01T1/202 | 分类号: | G01T1/202 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所 | 代理人: | 罗文群 |
地址: | 100871北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种伽玛射线探测成像方法及其装置,属于辐射探测成像技术领域。本方法在闪烁晶体阵列表面蒸镀光电阴极;伽玛射线入射到晶体阵列发出闪烁光;闪烁光在晶体端面发射时与光电阴极材料作用激发出光电子,收集光电子并使其沿晶体表面法线方向导出,对增益放大后的脉冲电压信号计算伽玛射线的能量和空间位置。本装置中,闪烁晶体阵列置于真空室内的绝缘支架上,光电阴极紧贴在闪烁晶体阵列的一侧,引出栅极、微通道板和成像阳极依次置于光电阴极的另一侧,引出电缆的一端与成像阳极相接,另一端伸出真空密封外壳。本发明方法和装置具有很高的空间分辨率和较高能量分辨率,抗磁场干扰,响应速度快,并且结构紧凑,尺寸小,生产成本低。 | ||
搜索关键词: | 一种 射线 探测 成像 方法 装置 | ||
【主权项】:
1、一种伽玛射线探测成像方法,其特征在于该方法包括以下步骤:(1)在闪烁晶体阵列表面蒸镀光电阴极;(2)伽玛射线平行入射到上述闪烁晶体阵列,使晶体内发出闪烁光;(3)上述闪烁光在晶体端面发射时与其表面光电阴极材料作用,产生光电效应而激发出光电子;(4)收集光电子,使光电子沿晶体表面法线方向导出;(5)对上述导出的光电子进行增益放大,收集经放大后的脉冲电压信号;(6)由上述脉冲电压信号,计算伽玛射线的能量和空间位置,伽玛射线的能量正比于脉冲电压信号大小,伽玛射线的空间位置等于脉冲电压信号产生的位置。
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