[发明专利]植入式可降解高分子材料药物控释载体及其制备工艺无效

专利信息
申请号: 200410026006.2 申请日: 2004-03-30
公开(公告)号: CN1561962A 公开(公告)日: 2005-01-12
发明(设计)人: 陈天宁;王万军;陈花玲;王小鹏;皇甫勇;崔战友 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: A61K9/00 分类号: A61K9/00;A61K47/30
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 代理人: 徐文权
地址: 710049*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 植入式可降解高分子材料药物控释载体及其制备工艺,在牺牲层上均匀涂覆一层厚度为50-600μm的光刻胶,通过一带有50-500μm通孔的微阵列结构的掩模板对光刻胶进行深紫外光光刻曝光,得到孔深为50-600μm,孔径为50-500μm的带有微阵列结构的模具,将聚二甲基硅氧烷或聚甲基丙烯酸甲酯涂覆在模具上脱模后得到控释载体模具;将可降解高分子材料涂覆在控释载体模具上,脱模后即得宽度为50-500μm,深度为50~600μm的微阵列结构的药物控释载体。本发明将生物可降解材料作为植入式药物控释系统的载体,在生物酶的作用下,该载体将从外围部分开始逐层裂解,伴随着封闭空腔的薄壁的逐层破裂,各微型空腔中所封装的药物也逐步得到释放。
搜索关键词: 植入 降解 高分子材料 药物 控释 载体 及其 制备 工艺
【主权项】:
1、一种植入式可降解高分子材料药物控释载体的制备工艺,首先在基体[1]上涂覆一层牺牲层[2],在牺牲层[2]上均匀涂覆一层厚度为50-600μm的SU-8光刻胶[3]后进行烘干,其特征在于:通过掩模板[4]对光刻胶[3]进行深紫外光光刻曝光,所说的掩模板[4]为一带有通孔的微阵列结构,其通孔的孔径为的为50-500μm;在显影液中进行显影处理,得到带有微阵列结构的模具[5],模具[5]的孔深为50-600μm,孔径为50-500μm;将聚二甲基硅氧烷或聚甲基丙烯酸甲酯涂覆在模具[5]上,涂层的厚度为60-700μm;从模具[5]上脱模后得到控释载体模具[6];将可降解高分子材料涂覆在控释载体模具[6]上,涂层厚度为60-700μm,脱模后即得植入式可降解高分子材料药物控释载体。
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