[发明专利]一种磁控等离子体装置

摘要

一种磁控等离子体装置，属真空等离子体沉积和刻蚀装置的技术领域，含真空腔体、基片架、等离子体产生电源、沉积气源和真空泵，它还含线圈和激磁电源，线圈跨接在激磁电源的两端，线圈套在真空腔体外，有利用线圈产生的磁场有效地控制低温等离子体，使等离子体的密度增加和分布均匀，从而增大薄膜材料沉积或刻蚀的速率和提高薄膜材料沉积或刻蚀的均匀性等优点。

主权项

1.一种磁控等离子体装置，含真空腔体(1)、基片架(3)、等离子体产生电源(4)、沉积气源(6)和真空泵(7)，真空腔体(1)是由不锈钢材料制成的空心球体、空心圆柱或空心正直棱柱，真空腔体(1)含抽气口(11)、抽气管(70)、抽气阀门(71)、进气口(10)、进气管(60)、进气阀门(61)和基片架引出电极(30)，真空腔体(1)内装有基片架(3)，真空腔体(1)与基片架引出电极(30)绝缘密封连接，抽气口(11)经抽气管(70)通过抽气阀门(71)与真空泵(7)连接，进气口(10)经进气管(60)通过进气阀门(61)与沉积气源(6)连接，真空腔体(1)内的压强为10-3～105Pa，等离子体产生电源(4)的频率和功率分别为0～1GHz和20～10000W，等离子体产生电源(4)的两个输出端(40)、(41)分别与真空腔体(1)的外壳和基片架引出电极(30)连接，其特征在于，它还含线圈(2)和激磁电源(5)，线圈(2)由绝缘导线缠绕而成，线圈(2)套在真空腔体(1)外，激磁电源(5)为电流可调的直流稳压电源，激磁电源(5)的两个输出端，正端(51)和负端(52)分别与线圈(2)的两个端头，始端(20)和末端(21)或末端(21)和始端(20)连接，线圈(2)的内部空间有载激磁电流线圈(2)产生的磁场。