[发明专利]一次性写入光学记录介质及其缺陷管理信息的管理方法有效
| 申请号： | 200380109904.8 | 申请日： | 2003-10-01 |
| 公开（公告）号： | CN1754206A | 公开（公告）日： | 2006-03-29 |
| 发明（设计）人： | 朴容彻;金成大 | 申请（专利权）人： | LG电子株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/00 | 分类号： | G11B7/00;G11B11/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;杨本良 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一次性写入光学记录介质，用于分配所述一次性写入光学记录介质的缺陷管理区的方法，以及用于分配所述一次性写入光学记录介质的备用区的方法。这里提供的具有至少一个记录层的一次性写入光学记录介质上的缺陷的管理方法包括下列步骤：分别分配至少一个具有固定大小的临时缺陷管理区和至少一个具有可变大小的临时缺陷管理区至所述光学记录介质，将缺陷管理信息记录在所述至少一个具有固定大小的临时缺陷管理区和所述至少一个具有可变大小的临时缺陷管理区上；以及使用所述至少一个具有固定大小的临时缺陷管理区和所述至少一个具有可变大小的临时缺陷管理区。 | ||
| 搜索关键词： | 一次性 写入 光学 记录 介质 及其 缺陷 管理 信息 方法 | ||
【主权项】：
1.一种管理具有至少一个记录层的一次性写入光学记录介质上的缺陷的方法，所述方法包括下列步骤：分别分配至少一个具有固定大小的临时缺陷管理区和至少一个具有可变大小的临时缺陷管理区至所述光学记录介质；及将缺陷管理信息记录在所述至少一个具有固定大小的临时缺陷管理区和/或所述至少一个具有可变大小的临时缺陷管理区上。
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