[发明专利]转换被测晶圆缺陷坐标有效
| 申请号： | 200380106432.0 | 申请日： | 2003-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN1726389A | 公开（公告）日： | 2006-01-25 |
| 发明（设计）人： | 基思·布兰科尼;大卫·M·施劳布 | 申请（专利权）人： | 飞思卡尔半导体公司 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956;G01N21/95;G06T7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李德山 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述了用于利用CAD数据将检出的晶圆缺陷坐标转换到光罩坐标的系统和方法。提供晶圆检查图像并确定晶圆中潜在缺陷的坐标。然后晶圆检查图像被转换成预定图像格式。因此使用被测器件的CAD数据产生第二图像，它具有同样的预定图像格式。然后将CAD导出图像和晶圆导出图像进行对准，并把晶圆中潜在缺陷的坐标转换成CAD坐标。然后在晶圆光罩上使用CAD坐标，对检出晶圆缺陷的相应光罩缺陷进行定位。 | ||
| 搜索关键词： | 转换 被测晶圆 缺陷 坐标 | ||
【主权项】：
1.一种对缺陷进行定位的方法，包括：提供被测器件的检查图像，包含潜在缺陷的检出坐标；将检查图像转换成预定图像格式的第一图像；提供被测器件的CAD数据；将CAD数据转换成预定图像格式的第二图像；将第一和第二图像对准；将潜在缺陷的检出坐标转换成CAD坐标；以及根据CAD坐标的函数定位缺陷。
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