[发明专利]用于光阻剂的清洁溶液及使用该溶液形成图案的方法有效
| 申请号： | 200310120314.7 | 申请日： | 2003-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN1530429A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | 李根守;卜喆圭;黄永善;李晟求;文承灿;申起秀 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/34 | 分类号： | C11D1/34;H05K3/26 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明揭示一种用于光阻剂的清洁溶液，其可在形成光阻剂图案的显影最终步骤中用于清洁半导体基材。还揭示一种使用该溶液形成光阻剂图案的方法。本发明所揭示的清洁溶液包括作为溶液的H2O、作为表面活性剂的式1所示的磷酸盐－醇胺盐、及醇化合物。本发明所揭示的清洁溶液比用作常规清洁溶液的蒸馏水具有更低的表面张力，因而可改善对光阻剂图案坍塌的抗性并可稳定光阻剂图案的形成。式1中R、x、y、z、a及b如说明书中定义。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光阻剂 清洁 溶液 使用 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于光阻剂图案的清洁溶液，包括：作为溶剂的H2O；及作为表面活性剂的下式1所示的化合物：式1![]()
其中R为C2-C20烷基或C6-C25烷基芳基；x、y及z独立地为0至10的整数；a为2或3；及b为2至50的整数。
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