[发明专利]用于光阻剂的清洁溶液及使用该溶液形成图案的方法有效
| 申请号： | 200310120314.7 | 申请日： | 2003-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN1530429A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | 李根守;卜喆圭;黄永善;李晟求;文承灿;申起秀 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/34 | 分类号： | C11D1/34;H05K3/26 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 光阻剂 清洁 溶液 使用 形成 图案 方法 | ||
【说明书】：
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