[发明专利]制造溅射靶的方法无效
| 申请号： | 03825999.0 | 申请日： | 2003-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN1742111A | 公开（公告）日： | 2006-03-01 |
| 发明（设计）人： | R·维米尔什;J·特林德罗 | 申请（专利权）人： | 贝克特股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吴亦华 |
| 地址： | 比利时茨*** | 国省代码： | 比利时;BE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制造溅射靶的方法。该方法包括步骤：－提供具有某一热膨胀系数的靶支撑件；－提供具有某一热膨胀系数的靶材料。这种靶材料至少包括第一种和第二种化合物。这第一种化合物具有第一个热膨胀系数，而第二种化合物具有第二个热膨胀系数。这第二个热膨胀系数比第一个热膨胀系数大，且第二个热膨胀系数比靶支撑件的热膨胀系数大；－将靶材料结合到靶支撑件上。本发明进一步涉及所得到的溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 溅射 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造溅射靶的方法，所述方法包括步骤：-提供具有某一热膨胀系数的靶支撑件；-提供具有某一热膨胀系数的靶材料；靶材料中至少包括第一种和第二种化合物。这第一种化合物具有第一个热膨胀系数，而第二种化合物具有第二个热膨胀系数。这第二个热膨胀系数比第一个热膨胀系数大，并且第二个热膨胀系数比靶支撑件的热膨胀系数大；-将所述靶材料结合到所述的靶支撑件上。
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