[发明专利]双折射薄膜的制备方法无效
| 申请号： | 03809362.6 | 申请日： | 2003-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN1650198A | 公开（公告）日： | 2005-08-03 |
| 发明（设计）人： | 吉见裕之;西小路祐一;村上奈穗;林政毅 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/13363;B32B27/08;B32B7/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 于辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种双折射薄膜的制备方法，通过该方法可以制备一包含液晶化合物双折射层和另一双折射层的双折射薄膜，所述方法减少了加工步骤数并降低了双折射薄膜的厚度。在该制备方法中，使用经过取向处理的非液晶性聚合物双折射层作为液晶化合物的取向层。根据该制备方法，可以省去单独制备取向层的加工步骤并且不需要其它取向层，因此使双折射薄膜的厚度降低。 | ||
| 搜索关键词： | 双折射 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种双折射薄膜的制备方法，其中在非液晶性聚合物双折射层上形成液晶化合物双折射层，所述液晶化合物双折射层是由经过取向的液晶化合物形成的，所述非液晶性聚合物双折射层是由非液晶性聚合物形成的，其中所述非液晶性聚合物双折射层经过取向处理，并且由于所述非液晶性聚合物双折射层的取向，使得所述液晶化合物双折射层在形成的同时被取向处理。
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