[发明专利]杀真菌的三唑并嘧啶、其制备方法、其在防治有害真菌中的用途和包含所述物质的试剂

摘要

本发明涉及式(I)的三唑并嘧啶，其中各取代基定义如下：L¹代表氰基、S(＝O)_nA¹或C(＝O)A²，其中A¹代表氢、羟基、烷基、烷基氨基或二烷基氨基；A²代表C₁－C₈烷氧基、C₁－C₆卤代烷氧基或在A¹下所提到的基团之一；n代表0、1或2；L²、L³代表氢或卤素；L⁴、L⁵代表氢、卤素或烷基；X代表卤素、氰基、烷基、卤代烷基、烷氧基或卤代烷氧基；R¹代表烷基、卤代烷基、环烷基、卤代环烷基、链烯基、链二烯基、卤代链烯基、环烯基、炔基、卤代炔基或环炔基、苯基、萘基或包含1－4个选自O、N或S的杂原子的5－10元饱和、部分不饱和或芳族杂环；R²代表氢或R¹；R¹和R²也可与它们所键合的氮原子一起形成可以被选自O、N和S的原子间隔和/或可以被取代的5－或6－元环；其中R¹和/或R²可以根据说明书被取代。本发明还涉及用于制备所述化合物的方法和中间产物，包含所述化合物的组合物以及所述化合物在防治有害真菌中的用途。

主权项

1.式I的三唑并嘧啶：其中各取代基具有下列含义：L¹为氰基、S(＝O)_nA¹或C(＝O)A²，其中A¹为氢、羟基、C₁-C₈烷基、C₁-C₈烷基氨基或二(C₁-C₈烷基)氨基；A²为C₁-C₈烷氧基、C₁-C₆卤代烷氧基或在A¹下所提到的基团之一；n为0、1或2；L²、L³为氢或卤素；L⁴、L⁵为氢、卤素或C₁-C₄烷基；X为卤素、氰基、C₁-C₄烷基、C₁-C₄卤代烷基、C₁-C₄烷氧基或C₁-C₂卤代烷氧基；R¹为C₁-C₈烷基、C₁-C₈卤代烷基、C₃-C₆环烷基、C₃-C₆卤代环烷基、C₂-C₈链烯基、C₄-C₁₀链二烯基、C₂-C₈卤代链烯基、C₃-C₆环烯基、C₂-C₈炔基、C₂-C₈卤代炔基或C₃-C₆环炔基、苯基、萘基或包含1-4个选自O、N和S的杂原子的5-10元饱和、部分不饱和或芳族杂环；R²为氢或在R¹下所提到的基团之一；R¹和R²也可与它们所键合的氮原子一起形成可以被选自O、N和S的原子间隔和/或可以带有一个或多个选自卤素、C₁-C₆烷基、C₁-C₆卤代烷基和氧基-C₁-C₃亚烷氧基的取代基或其中N和相邻C原子可以经由C₁-C₄亚烷基链连接的5-或6-元环；其中R¹和/或R²可以被1-4个相同或不同的基团R^a取代：R^a为卤素、氰基、硝基、羟基、C₁-C₆烷基、C₁-C₆卤代烷基、C₁-C₆烷基羰基、C₃-C₆环烷基、C₁-C₆烷氧基、C₁-C₆卤代烷氧基、C₁-C₆烷氧基羰基、C₁-C₆烷硫基、C₁-C₆烷基氨基、二(C₁-C₆烷基)氨基、C₂-C₆链烯基、C₂-C₆链烯氧基、C₃-C₆炔氧基、C₃-C₆环烷基、苯基、萘基或包含1-4个选自O、N和S的杂原子的5-10元饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中这些脂族、脂环族或芳族基团本身可以被部分或全部卤代或可以带有1-3个基团R^b：R^b为卤素、氰基、硝基、羟基、巯基、氨基、羧基、氨基羰基、氨基硫代羰基、烷基、卤代烷基、链烯基、链烯氧基、炔氧基、烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、烷基氨基、二烷基氨基、甲酰基、烷基羰基、烷基磺酰基、烷基亚磺酰基、烷氧基羰基、烷基羰氧基、烷基氨基羰基、二烷基氨基羰基、烷基氨基硫代羰基或二烷基氨基硫代羰基，其中这些基团中的烷基包含1-6个碳原子且在这些基团中提到的链烯基或炔基包含2-8个碳原子；和/或1-3个下列基团：环烷基、环烷氧基、杂环基或杂环氧基，其中环状体系包含3-10个环成员；芳基、芳氧基、芳硫基、芳基-C₁-C₆烷氧基、芳基-C₁-C₆烷基、杂芳基、杂芳氧基或杂芳硫基，其中芳基优选包含6-10个环成员且杂芳基包含5或6个环成员，其中环状体系可以被部分或全部卤代或可以被烷基或卤代烷基取代；A¹为氢、羟基、C₁-C₈烷基、C₁-C₈烷基氨基或二(C₂-C₈烷基)氨基；以及n为0、1或2。