[发明专利]用于浸液式光刻的折射投影物镜有效

专利信息
申请号: 03805575.9 申请日: 2003-02-26
公开(公告)号: CN1639644A 公开(公告)日: 2005-07-13
发明(设计)人: H·-J·罗斯塔尔斯基;W·乌尔里希 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT股份公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 崔幼平
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种适合于浸液式显微光刻法的纯折射投影物镜设计成单腰部系统,所述系统具有五个透镜组,在这样的情况中,提供了具有负折射能力的第一透镜组、具有正折射能力的第二透镜组、具有负折射能力的第三透镜组、具有正折射能力的第四透镜组以及具有正折射能力的第五透镜组。所述系统孔布置在第四透镜组和第五透镜组之间的最大射束直径的区域中。本发明所涉及的投影物镜的实施例获得了NA>1的非常高的数值孔径以及具有大像场,并且其特征在于,良好的光学校正状态和适度的总尺寸。当在操作波长低于200nm的情况下在投影物镜与衬底之间使用浸液时可分辨基本低于100nm的图像宽度。
搜索关键词: 用于 浸液 光刻 折射 投影 物镜
【主权项】:
1.一种借助于布置在投影物镜的最后光学元件与像面之间的浸液介质将布置在投影物镜的物面中的图案投影在投影物镜的像面中的折射投影物镜,其包括:位于物面之后的具有负折射能力的第一透镜组(LG1);位于第一透镜组后面的具有正折射能力的第二透镜组(LG2);位于第二透镜组后面的具有负折射能力的第三透镜组(LG3);位于第三透镜组后面的具有正折射能力的第四透镜组(LG4);位于第四透镜组后面的具有正折射能力的第五透镜组(LG5);以及布置在第四透镜组和第五透镜组之间的最大射束直径的区域中的系统孔(5)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT股份公司,未经卡尔蔡司SMT股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03805575.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top