[发明专利]透明薄膜的形成方法,根据该方法形成的透明薄膜及具有透明薄膜的透明基体无效
| 申请号： | 03803029.2 | 申请日： | 2003-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN1625534A | 公开（公告）日： | 2005-06-08 |
| 发明（设计）人： | 大谷强;平田昌宏 | 申请（专利权）人： | 日本板硝子株式会社 |
| 主分类号： | C03C17/22 | 分类号： | C03C17/22 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种使用原料气体根据化学气相沉积法形成透明薄膜的方法，其特征在于：成膜速度为8nm/s以上，该透明薄膜含有选自碳(C)和氧(O)中的至少一种、氮(N)、氢(H)及硅(Si)。根据该方法，可在浮槽内的玻璃带上形成薄膜中的张力被缓和而不易从基体剥离，并且在可见光区的透过率高的透明薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 薄膜 形成 方法 根据 具有 基体 | ||
【主权项】：
1.一种透明薄膜的形成方法，是使用原料气体根据化学气相沉积法形成透明薄膜的方法，其特征在于：成膜速度为8nm/s以上，该透明薄膜含有选自碳(C)和氧(O)中的至少一种、氮(N)、氢(H)及硅(Si)。
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