[发明专利]夹盘、光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 03155139.4 | 申请日： | 2003-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN1487360A | 公开（公告）日： | 2004-04-07 |
| 发明（设计）人： | M·H·H·赫克斯;J·J·奥滕斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种具有静电夹盘10的光刻投影装置1。静电夹盘10包括介质元件12，其具有多个形成于第一表面上的引脚16。通过在位于介质元件的与夹紧面相对的表面上的电极14和位于待夹紧制品18的夹紧面上的电极20之间施加电位差，就可将待夹紧制品夹紧在夹盘10上。引脚设有至少一个上方导电层，其用于降低约翰逊拉别克力，并允许更快地释放衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 夹盘 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于通过静电力将制品固定在支撑台上的夹盘，所述制品为：-将在制造设备中采用光刻投影技术来加工的衬底；或-光刻投影装置、掩膜处理装置如掩膜检查或清洁装置、或者掩膜制造装置中的光刻投影掩膜或掩膜坯件；所述夹盘包括：第一介质元件，其特征在于：在所述介质元件的朝向所述制品的一侧上设有多个引脚，至少各所述引脚具有至少一个导电层，其形成于与所述制品接触的表面上，所述导电层具有小于10欧米的电阻率。
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