[发明专利]升降式基板处理装置及具有该装置的基板处理系统无效

专利信息
申请号: 03153713.8 申请日: 2003-08-18
公开(公告)号: CN1484279A 公开(公告)日: 2004-03-24
发明(设计)人: 水川茂;中田胜利 申请(专利权)人: 住友精密工业株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;G02F1/13
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 彭益群
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种基板处理装置,其具有从处理线其中一处朝另一处传送基板的功能,且可在传送中有效地处理基板。基板处理装置(10)由外壳体(11)、处理机构(20)和升降机构(40)构成。外壳体(11)具有在上下处并设的基板投入口(11a)和基板排出口(11b),呈框体状。处理机构(20)内置于外壳体(11)内,包括:容纳并支持从基板投入口(11a)送入的基板、从基板排出口(11b)排出基板的传送-支持机构;支持传送-支持机构的支持架台(21);使传送-支持机构支持的基板倾斜的基板倾斜机构;设于传送-支持机构上方、将处理流体喷到由基板倾斜机构倾斜的基板上的处理流体喷出机构。升降机构(40)支持处理机构(20)并使其沿上下方向升降,使处理机构(20)经过基板投入口(11a)和基板排出口(11b)。
搜索关键词: 升降 式基板 处理 装置 具有 系统
【主权项】:
1.一种升降式基板处理装置,其特征在于:包括:外壳体,该外壳体具有并设于上下处的基板投入口和基板排出口,呈框体状;处理机构,该处理机构内置于所述外壳体内,该处理机构包括:传送-支持机构,该传送-支持机构容纳并支持从所述基板投入口送入的基板,另一方面,从所述基板排出口排出所述基板;支持架台,该支持架台支持所述传送-支持机构;基板倾斜机构,该基板倾斜机构使由所述传送-支持机构支持的基板倾斜;处理流体喷出机构,该处理流体喷出机构设置于所述传送-支持机构的上方,将处理流体喷出到由所述基板倾斜机构倾斜的基板上;升降机构,该升降机构支持所述处理机构,并使该处理机构沿上下方向升降,使所述处理机构经过所述基板投入口和基板排出口。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友精密工业株式会社,未经住友精密工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03153713.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top