[发明专利]缺陷分析抽样控制系统及方法无效
| 申请号： | 03150599.6 | 申请日： | 2003-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN1590989A | 公开（公告）日： | 2005-03-09 |
| 发明（设计）人： | 林锦祥;施经振 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 201203上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种缺陷分析抽样控制系统及方法，其包括一基本设定模块、批次设定模块及在制品预测模块，该基本设定模块与批次设定模块是针对不同的产品种类进行选择，以选择设定相对的抽样规则，并对各批次的抽样规则作设定；再配合在制品预测模块来记录所有进行中的产品，以提供查看该产品的状态与进度。因此，本发明可解决现有技术存在的分析抽样控制困难的缺陷，以应映产品的多样性，使各产品抽样规则的控制和调整更加简便，并使抽样规则的设置更加灵活。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 分析 抽样 控制系统 方法 | ||
【主权项】：
1、一种缺陷分析抽样控制系统，其特征在于，包括：一基本设定模块，其可在内设的所有规则模式中，依据不同的半导体产品选择设定相对的抽样规则；一批次设定模块，针对该基本设定模块的产品的批次而选择设定其所对应的批次抽样规则；以及一在制品预测模块，其可记录所有进行中的产品，以提供查看该产品的状态与进度。
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