[发明专利]失真测量方法和曝光设备有效
| 申请号： | 03150004.8 | 申请日： | 2003-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN1479073A | 公开（公告）日： | 2004-03-03 |
| 发明（设计）人： | 深川容三 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G06T1/00;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 季向冈 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种失真测量方法和曝光设备，其中反复进行m×n次(例如2×2)通过一个光网以预定列间距和行间距的M行和N列(例如3行和3列)将第一标记安排在一个感光基片上的拍摄区曝光，从而在感光基片上形成M×m行和N×n列(6行和6列)的第一标记。M和m是互质的自然数，N和n是互质的自然数，并且M＞m及N＞n成立。反复进行M×N次通过光网以预定列间距和行间距的m行和n列将第二标记安排在感光基片上拍摄区曝光，从而形成M×m行和N×n列的第二标记。因此，由第一和第二标记形成M×m×N×n个覆盖标记。对于M×m×N×n个形成的覆盖标记的各个，测量第一和第二标记的未对准量。根据未对准量计算失真量。能以较高精度进行失真测量。 | ||
| 搜索关键词： | 失真 测量方法 曝光 设备 | ||
【主权项】：
1.一种失真测量方法，包括：第一形成步骤，反复进行m×n次通过一个光网和一个投影光学系统，以预定列间距和预定行间距的M行和N列将第一标记安排在一个感光基片上的拍摄区曝光，从而在感光基片上形成M×m行和N×n列的第一标记，M和m是互质的自然数，N和n是互质的自然数，并且M＞m及N＞n；第二形成步骤，反复进行M×N次通过光网以预定列间距和预定行间距的m行和n列将第二标记安排在感光基片上的拍摄区曝光，从而在感光基片上形成M×m行和N×n列的第二标记，在第一和第二形成步骤中形成的第一和第二标记形成M×m×N×n个覆盖标记；测量步骤，对于M×m×N×n个覆盖标记的各个，测量第一和第二标记的未对准量；以及计算步骤，根据测量步骤所测量的未对准量，计算所述投影光学系统的失真量。
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