[发明专利]曝光头以及曝光装置有效
| 申请号： | 03141106.1 | 申请日： | 2003-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN1467532A | 公开（公告）日： | 2004-01-14 |
| 发明（设计）人： | 砂川宽;石川弘美;冈崎洋二;永野和彦;藤井武;大森利彦 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B26/08 | 分类号： | G02B26/08;G03B27/50 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光头和曝光装置。在不出现迷光的产生以及光效率的降低的情况下可以将对曝光面进行曝光的光束点调整到所希望的光束点直径上。在曝光头中，在DMD的微反射镜的像位置上配置第1微透镜，将这些微透镜进行2维的排列配置，使其与DMD中的各微反射镜相对应。在这些第1微透镜的后方焦点位置上分别配置第2微透镜。在曝光头中，由第2微透镜成像的微小尺寸的微反射镜的实像作为光束点对曝光面进行曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 以及 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光头(166)，包括具有发射激光光束的多个激光出射部(68)的光源单元(144)；包括根据各控制信号改变光调制状态的像素部(62)的、在规定的基板(60)上将该像素部(62)配置成2维状态的激光光束调制用的空间光调制元件(50)；使空间光调制元件(50)的各像素部(62)的像成像的第1光学系(54、58)、与像素部(62)对应配置成2维状态、并分别被支撑在各像素部(62)的成像位置上的多个第1微透镜(74)，其特征在于：将在各第1微透镜(74)的后方焦点位置上形成的激光出射部(68)的光源像投影在曝光面(56)上，以该光源像作为光束点对曝光面(56)进行曝光。
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