[发明专利]光刻装置和器件的制造方法无效
| 申请号： | 03125544.2 | 申请日： | 2003-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN1495527A | 公开（公告）日： | 2004-05-12 |
| 发明（设计）人： | F·J·H·M·托尼森;A·J·范德内特;W·洛克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68;B08B5/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 黄力行 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在用于光刻装置的吹扫气系统中，只要杂质水平降低到阀值以下，就充分地降低系统的吹扫气流率。这种控制可以根据探测到的杂质水平或时间表来进行。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投射装置，包括：-用于提供辐射投射束的辐射系统；-用于支撑构图部件的支撑结构，该构图部件用来根据所需图案对投射束构图；-用于保持基底的基底台；-用于将带图案的投射束投射到基底靶部上的投射系统；-围绕一部分投射束的路径的间隔部分；以及-利用吹扫气净化所述间隔部分的净化装置；其特征在于：所述净化装置包括在吹扫气到所述间隔部分的输入端中的可控制流量限制器和控制装置，该控制装置在所述间隔部分中的杂质低于阈值时控制流量限制器限制吹扫气的流量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/03125544.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：磺酸盐和光刻胶组合物
- 下一篇：光刻投射装置及用于所述装置中的反射器组件
