[发明专利]壳体与该壳体的表面处理方法有效
| 申请号： | 03123780.0 | 申请日： | 2003-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN1549662A | 公开（公告）日： | 2004-11-24 |
| 发明（设计）人： | 陈胜国;陈正楠 | 申请（专利权）人： | 华宇电脑股份有限公司 |
| 主分类号： | H05F1/02 | 分类号： | H05F1/02 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 潘培坤;楼仙英 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种壳体与该壳体的表面处理方法；壳体，应用于一电子设备且具有一表面；该壳体的表面处理方法，包含下列步骤：一表面清净处理，清净该表面所具有的一污物；一电镀涂布处理，将一金属材料涂布至该表面，形成一金属镀膜；一抛光程序，抛光该金属镀膜；以及一真空涂布处理，将一透明电绝缘的材料涂布至抛光后的该金属镀膜上；采用本发明的处理方法可增进壳体对静电放电抵抗的能力。 | ||
| 搜索关键词： | 壳体 表面 处理 方法 | ||
【主权项】：
1、一种壳体的表面处理方法，以增进其对静电放电的抵抗的能力，该壳体应用于一电子设备且具有一表面，该静电放电是由外界对该电子设备进行，该方法包含下列步骤：一表面清净处理，清净该表面所具有的一污物；一电镀涂布处理，将一金属材料涂布至该表面，形成一金属镀膜；一抛光程序，抛光该金属镀膜；以及一真空涂布处理，将一透明电绝缘的材料涂布至抛光后的该金属镀膜上。
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