[发明专利]光学薄膜厚度控制方法及装置，绝缘多层薄膜及制造装置

摘要

为提供一种以高精确性控制诸如光学薄膜之类的绝缘多层薄膜的薄膜厚度的方法，可以基于同一方法控制薄膜厚度的光学薄膜厚度控制装置和绝缘多层薄膜制造装置，和使用该控制装置或制造装置制造的绝缘多层薄膜。光学薄膜厚度控制装置包括：薄膜形成设备15，该设备具有可旋转的衬底23和喷溅目标28；光电二极管16，用于检测以预先确定的间隔沿着半径应用到可旋转的衬底的多个单色光束；以及A/D转换器17，其中在衬底23和目标28之间提供可移动的遮光器29，它沿着可旋转的衬底23的半径的方向移动，以关闭衬底23上的薄膜形成。从光电二极管16和A/D转换器17检测出的每一个单色光束中，由最小二乘法计算出倒透射率的二次回归函数。CPU 18和马达驱动器19，它们基于当最新的表面层薄膜达到预先确定的光学薄膜厚度时薄膜增长时间的每一个预测值指示可移动的遮光器的动作，移动该可移动的遮光器29以关闭已经达到预先确定的光学薄膜厚度的薄膜形成区域的薄膜形成。

主权项

1.一种光学薄膜厚度控制方法，其特征在于，在由一种或多种绝缘体制成的单层或多层结构的光学薄膜的薄膜形成时段内，入射的单色光通过所说的单层或多层结构传输，以测量所说的光学薄膜的透射率并计算透射率的倒数作为倒透射率，在所说的测量数据组达到最大值或最小值之前，两个变量的测量数据组通过最小二乘法被回归到二次函数，该两个变量是与薄膜厚度增大相关联的正在堆积的最新的表面层薄膜的薄膜增长时间和所说的倒透射率，所说的二次回归函数上最大值点或最小值点处的薄膜增长时间被用作当达到所说的倒透射率的最大值或最小值的光学薄膜厚度时所说的薄膜增长时间的预测值，基于干涉理论，所说的倒透射率的最大值和最小值每隔相当于所说的单色光波长的1/4的光学薄膜厚度的间隔周期性地分布。