[发明专利]光学薄膜厚度控制方法及装置，绝缘多层薄膜及制造装置有效
| 申请号： | 03108229.7 | 申请日： | 2003-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN1478920A | 公开（公告）日： | 2004-03-03 |
| 发明（设计）人： | 高桥晴夫;半沢孝一;松元孝文 | 申请（专利权）人： | 爱发科股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 付建军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学薄膜 厚度 控制 方法 装置 绝缘 多层 薄膜 制造 | ||
【说明书】：
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