[发明专利]曝光装置以及曝光方法无效
| 申请号： | 03100263.3 | 申请日： | 2003-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN1432874A | 公开（公告）日： | 2003-07-30 |
| 发明（设计）人： | 加藤正纪;小山元夫 | 申请（专利权）人： | 尼康株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种曝光装置，包括一光源(1)以及一照明光学系统IL，使当从该光源(1)的光照射于一罩幕M，利用通过该罩幕M的光而照射于一感旋光性基板P上，而形成于该罩幕M的一图案DP在该曝光装置中，转印到该感旋光性基板P。该照明光学系统IL包括对应于该感旋光性基板P上的感光特性，有切换照射于该罩幕M的光的波长幅度的一波长幅度切换装置(6、7)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，其特征是，该装置包括：一光源；以及一照明光学系统，当从该光源的光照射于一罩幕，利用通过该罩幕的光而照射于一感旋光性基板上，形成于该罩幕的一图案，于该曝光装置，而转印到该感旋光性基板，该照明光学系统包括对应于该感旋光性基板上的感光特性，有切换照射于该罩幕的光的波长幅度的一波长幅度切换装置。
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