[发明专利]厚膜型光致抗蚀剂及其使用方法有效
| 申请号： | 02811695.X | 申请日： | 2002-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN1514956A | 公开（公告）日： | 2004-07-21 |
| 发明（设计）人： | J·W·撒克里;J·M·莫利;G·G·滕 | 申请（专利权）人： | 希普雷公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/004;G03F7/26;G03F7/38;G03F7/40 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了能将光致抗蚀剂涂层、处理成厚涂层，例如干燥(后软烘烤)层厚度超过2微米的新的方法和组合物。根据本发明，光致抗蚀剂可以短波长辐射成象。 | ||
| 搜索关键词： | 厚膜型光致抗蚀剂 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
1.一种获得抗蚀剂凹凸图象的方法，该方法包括：将正型光致抗蚀剂液体涂敷在基体表面上形成涂层，其中光致抗蚀剂包含光致生酸剂化合物和具有光致生酸不稳定基团的树脂；除去光致抗蚀剂涂层中的溶剂，以形成厚度为至少约1.5微米的涂层；使光致抗蚀剂涂层在构图的活性辐射下曝光；加热已曝光的光致抗蚀剂涂层至不超过约115℃温度；以及使光致抗蚀剂涂层显影从而获得抗蚀剂凹凸图象。
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