[发明专利]使用阶梯形型面的掩膜来制造薄膜结构的系统和方法无效
| 申请号： | 02806717.7 | 申请日： | 2002-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN1498284A | 公开（公告）日： | 2004-05-19 |
| 发明（设计）人： | D·A·巴尔德温;T·L·海尔顿 | 申请（专利权）人： | 4波公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C16/00;G02B1/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 崔幼平;章社杲 |
| 地址： | 美国弗*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于制造沉积在底衬(14)上的薄膜结构的系统和方法。该薄膜结构具有沿底衬(14)半径变化的不同的相应厚度。底衬(14)围绕旋转轴线旋转，并且被沉积材料的源指向旋转底衬。具有阶梯形型面的掩膜(20)定位在旋转的底衬(14)和该源之间。该阶梯形的掩膜(20)选择性地阻挡从该源发射出的材料，以防止其到达该底衬。该掩膜(20)的型面的每一阶梯部对应于薄膜结构的相应厚度中的一个厚度。薄膜结构的不同的相应厚度沿半径变化，该半径从旋转底衬的旋转轴线开始测量。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 阶梯 形型面 掩膜来 制造 薄膜 结构 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造沉积在底衬上的薄膜结构的系统，其中该薄膜结构具有沿该底衬的半径改变的不同的相应厚度，该系统包括：(a)旋转底衬；(b)指向该旋转底衬的被沉积材料的源；和(c)定位在该旋转底衬和该源之间的掩膜，该掩膜具有阶梯形的型面，该型面的每一阶梯部对应于该相应厚度中的一个厚度；以及其中，该半径从该旋转底衬的旋转轴线开始测量。
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