[发明专利]光罩、光罩的制成方法以及使用该光罩的图案形成方法有效

专利信息
申请号: 02805742.2 申请日: 2002-12-24
公开(公告)号: CN1633625A 公开(公告)日: 2005-06-29
发明(设计)人: 三坂章夫 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: G03F1/08 分类号: G03F1/08;H01L21/027
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种不依靠图案的形状或者是密集程度,而可在相同曝光条件下形成精细图案的光罩。该光罩是具有于透过性衬底(2)上所设置的光罩图案,该光罩图案是通过以下部分所构成:以透光部分(4)为基准而使曝光光线同相位透过的半遮光部分(3);及以透光部分(4)为基准而使曝光光线反相位透过的移相器(5)。半遮光部分(3)是具有使曝光光线部分透过的透过率。移相器(5)是设置在通过该移相器的透过光可抵消透过透光部分(4)及半遮光部分(3)的光的一部分的位置上。
搜索关键词: 制成 方法 以及 使用 图案 形成
【主权项】:
1.一种光罩,包括:在对于曝光光线具有透光性的透过性衬底上设有对于上述曝光光线具有遮光性的光罩图案、及在上述透过性衬底上未形成有上述光罩图案的透光部分,其特征为:上述光罩图案,由以下部分所构成:以上述透光部分为基准而使上述曝光光线同相位透过的半遮光部分;以上述透光部分为基准而使上述曝光光线反相位透过的移相器;上述半遮光部分,具有使上述曝光光线部分透过的透过率;上述移相器,设置在可由透过该移相器的光抵消透过上述透光部分及上述半遮光部分的光的一部分的位置上。
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