[发明专利]制造光学器件的方法以及相关的改进

摘要

本发明公开了一种制造光学器件(例如，半导体光电器件，如激光二极管、光调制器、光放大器、光开关等)的方法。本发明还公开了一种包括此类器件的光电集成电路(OEIC)和光子集成电路(PIC)。根据本发明，提供一种制造光学器件(40)的方法，该器件(40)是从一包括量子阱混杂(QWI)结构(30)的器件基体部分(15)制得的，该方法包括步骤：在该器件基体部分(5)上沉积介电层(51)以前，等离子体蚀刻该器件基体部分(5)的表面的至少一部分，从而将结构缺陷至少引入该器件基体部分(5)的与该介电层(51)邻近的部分(53)中。该结构缺陷主要包括“点”缺陷。

主权项

1.一种制造光学器件的方法，该器件是从一包括量子阱混杂(QWI)结构的器件基体部分制得的，该方法包括步骤：在该器件基体部分的表面的至少一部分上进行等离子体蚀刻，从而将结构缺陷至少引入该器件基体部分与该表面邻近的部分；以及接着用一介电层覆盖该蚀刻过的表面。