[发明专利]赋予张力性绝缘皮膜的粘合性优异的单取向硅钢板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 02801316.6 申请日: 2002-04-23
公开(公告)号: CN1461357A 公开(公告)日: 2003-12-10
发明(设计)人: 重里元一;藤井浩康;村上健一;牛神义行;中村修一;杉山昌章 申请(专利权)人: 新日本制铁株式会社
主分类号: C23C22/00 分类号: C23C22/00;C21D9/46
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 邓定机;段承恩
地址: 暂无信息 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明是采用酸洗等方法除去镁橄榄石或者防止其生成,然后形成赋予张力性绝缘皮膜的单取向硅钢板,其特征在于,在赋予张力性绝缘皮膜与钢板的界面上,具有平均膜厚2nm以上、500nm以下的以非晶质二氧化硅为主体的膜状外部氧化型氧化膜、平均膜厚在上述范围内的以非晶质二氧化硅为主体的膜状外部氧化型二氧化硅与以非晶质二氧化硅为主体的粒状氧化物的混合氧化物中的任1种以上,并且,满足下列任1个以上的要件:规定的相对于膜状氧化膜的粒状氧化物的比例、构成元素的比例、空洞所占的比例、金属铁所占的比例和低密度层的平均厚度。
搜索关键词: 赋予 张力 绝缘 皮膜 粘合 优异 取向 硅钢 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种赋予张力性绝缘皮膜的粘合性优异的单取向硅钢板,该钢板是采用酸洗等方法除去镁橄榄石等无机矿物质皮膜或者有意识地防止其生成而制造的、形成有赋予张力性绝缘皮膜的单取向硅钢板,其特征在于,在赋予张力性绝缘皮膜与钢板的界面上,具有平均膜厚2nm以上、500nm以下的以非晶质二氧化硅为主体的膜状外部氧化型氧化膜、平均膜厚2nm以上、500nm以下的以非晶质二氧化硅为主体的膜状外部氧化型二氧化硅与以非晶质二氧化硅为主体的粒状氧化物的混合氧化物中的任一种或以上,并且满足下列A-E中的任一种或以上的要件:A:上述粒状氧化物相对于上述膜状氧化膜的比例,以断面面积率计在2%以上;B:在上述膜状氧化膜中,由选自铁、铝、钛、锰、铬中的1种或1种以上元素构成的氧化物所占的比例,以断面面积率计在50%或以下;C:在上述膜状氧化膜中,空洞所占的比例以断面面积率计在30%或以下;D:在上述膜状氧化膜中,金属铁所占的比例以断面面积率计在30%或以下;E:在上述膜状氧化膜中,当根据采用电子能量损失分光法测得的弹性散射强度与非弹性散射强度的比率来评价时,低密度层的平均厚度是总厚度的30%或以下。
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