[发明专利]自动档案输入的掩膜测量方法有效
申请号: | 02151256.6 | 申请日: | 2002-12-12 |
公开(公告)号: | CN1507025A | 公开(公告)日: | 2004-06-23 |
发明(设计)人: | 何基宏;游桂美;张卫航 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 陈亮 |
地址: | 2012*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明为一种自动档案输入的掩膜测量方法,包含:利用标的产生装置产生标的产生数据,该数据包括取样点坐标与重要大小标的值以及作为测量参考用的测量点;以档案名称命名该标的产生数据,并将标的产生数据存入档案服务器;将档案名称指定至一执行卡;将档案名称分别输入至掩膜测量装置以及个人电脑中;藉由掩膜测量装置根据档案名称,从档案服务器处取得标的产生数据;从个人电脑,取得取样点坐标与重要大小标的值;藉由掩膜测量装置测量待测掩膜,得到原始重要大小值,并送至档案服务器;个人电脑自档案服务器取得原始重要大小值并排序,经适当格式化回传至该档案服务器,以分析处理;个人电脑执行待测掩膜的重要大小的相关计算,写回该执行卡。 | ||
搜索关键词: | 自动 档案 输入 测量方法 | ||
【主权项】:
1、一种自动档案输入的掩膜测量方法,该方法包含以下步骤:藉由一标的产生装置,以产生一标的产生数据,该标的产生数据包括取样点座标与重要大小标的值以及作为测量参考用的测量点,之后,将该标的产生数据给予命名一档案名称,并将标的产生数据存入至一档案服务器;将该档案名称指定至一执行卡;将该执行卡上的该档案名称,分别输入至一掩膜测量装置以及一个人电脑中;藉由该掩膜测量装置,根据该档案名称,自档案服务器处取得该些标的产生数据;藉由该个人电脑,取得该取样点座标与重要大小标的值;藉由掩膜测量装置,测量一待测掩膜,以测量得一原始重要大小值,并将该值送至档案服务器;藉由该个人电脑自档案服务器取得该原始重要大小值,并予以排序,而经适当格式化以回传至该档案服务器,以便分析处理;藉由该个人电脑执行待测掩膜的重要大小的相关计算,并写回至该执行卡。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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