[发明专利]抗反射膜,光学元件和视觉显示器有效
| 申请号： | 02146838.9 | 申请日： | 2002-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN1412577A | 公开（公告）日： | 2003-04-23 |
| 发明（设计）人： | 宫武稔;增田友昭;重松崇之;吉冈昌宏 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 柳春琦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种抗反射膜，其具有直接在透明基质的一面或通过其它层制备的硬涂层，并进一步将抗反射层层压在硬涂层的表面上，其中的抗反射层由从下列溶液获得的干燥固化膜制成，该溶液含硅氧烷寡聚物(A)，其通过可水解的烷氧硅烷部分水解后的缩聚反应获得，该烷氧硅烷含基本成分为通式(1)Si(OR)4(其中R表示甲基或乙基)的四烷氧硅烷，和具有氟代烷基结构和聚硅氧烷结构的化合物(B)，该抗反射膜具有优良的防划性和耐污染性，且在相对短的时间内和相对低的温度下固化。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 光学 元件 视觉 显示器 | ||
【主权项】：
1.一种抗反射膜，具有直接在透明基质的一面或通过其它层制备的硬涂层，并进一步将抗反射层层压在硬涂层的表面上，其中抗反射层由从下列溶液获得的干燥固化膜制成，该溶液包含：硅氧烷寡聚物(A)，其通过可水解的烷氧硅烷部分水解后的缩聚反应获得，该烷氧硅烷含基本成分为通式(1)：Si(OR)4(其中R表示甲基或乙基)的四烷氧硅烷；以及化合物(B)，该化合物具有氟代烷基结构和聚硅氧烷结构。
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