[发明专利]电子发射元件,电子源以及图像形成装置的制造方法无效
申请号: | 02146809.5 | 申请日: | 2002-10-11 |
公开(公告)号: | CN1412808A | 公开(公告)日: | 2003-04-23 |
发明(设计)人: | 岩城孝志 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01J9/02 | 分类号: | H01J9/02;H01J1/30 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李德山 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供能够提高电子发射元件的均匀性的同时,进行电子发射元件的改善,可以制造在长时期内显示品位出色的图像形成装置的图像形成装置的制造方法,在第1基板(1)上形成多个由电极(2、3)构成的电极对,形成包含感光性材料的高分子膜使得把该电极(2、3)之间进行连接,使用光把该高分子膜图形化为预定形状以后,使该被图形化了的高分子膜低电阻化,做成导电性膜(6’),进而通过在电极(2、3)之间流过电流,在导电性膜(6’)的一部分中形成间隙(5’),而且,在减压气氛中经过接合部件把上述第1基板与配置了图像形成部件的第2基板相接合构成图像形成装置。 | ||
搜索关键词: | 电子 发射 元件 以及 图像 形成 装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种电子发射元件的制造方法,其特征在于:具有在基体上形成一对电极的工序;形成包含感光性材料的高分子膜使得把上述电极之间进行连接的工序;使用光把上述包含感光性材料的高分子膜图形化为预定形状的工序;使上述被图形化了的高分子膜低电阻化的工序;在上述高分子膜的低电阻化的膜之间形成间隙的工序。
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