[发明专利]磁记录介质的制造方法及用于其的主信息载体无效
| 申请号： | 02143794.7 | 申请日： | 2002-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN1438628A | 公开（公告）日： | 2003-08-27 |
| 发明（设计）人： | 浜田泰三;石田达朗;伴泰明 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在一种磁记录介质制造方法中，当主信息载体上对应于记录于磁记录介质上的磁化信息的一对彼此相邻磁化转移区之间长度的铁磁薄膜长度为A、铁磁薄膜的薄膜厚度为t和A/t为k时，k被设置为从不小于0.8至不大于8.0。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 制造 方法 用于 信息 载体 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质的制造方法，包括以下步骤：使一个主信息载体与一个磁记录介质相接触，所述主信息载体具有多个具有信息信号的形式并且沿圆周方向以预定间隔彼此相邻地设置的铁磁薄膜，而所述信息信号被磁转移至在所述磁记录介质上；及使由一个施加于所述主信息载体上的磁场所造成的沿圆周方向的在相邻铁磁薄膜之间的漏磁通量沿所述施加磁场的方向对所述磁记录介质进行磁化，以便在所述磁记录介质内沿该圆周方向形成磁化转变区，其中当所述主信息载体上的铁磁薄膜的圆周长度为A、所述铁磁薄膜的薄膜厚度为t且A/t为纵横比时，该纵横比被适当地设置以使对应于构成所述铁磁薄膜的磁性材料的有效转移磁场不小于1000奥斯特。
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