[发明专利]光生伏打元件和光生伏打器件有效

专利信息
申请号: 02143307.0 申请日: 2002-09-25
公开(公告)号: CN1411078A 公开(公告)日: 2003-04-16
发明(设计)人: 丸山荣治;马场俊明 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社
主分类号: H01L31/04 分类号: H01L31/04
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 夏青
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 作为透明导电膜的ITO膜形成在半导体层上,该半导体层包括非晶半导体或微晶半导体,在ITO膜上形成梳状集电极,并且在ITO膜和集电极上放置含有碱离子的护罩玻璃,其中由EVA构成的树脂膜置于其间。ITO膜(透明导电膜)的(222)晶面取向度不小于1.0,优选不小于1.2且不大于2.6,更优选不小于1.4且不大于2.5。或者,透明导电膜具有在相对于半导体层的边界一侧上的(321)晶面取向和在其余部分中的主要的(222)晶面取向。当ITO膜的总厚度为100nm时,在半导体层一侧上的10nm厚的部分中的(321)/(222)衍射强度比不小于0.5且不大于2.5。
搜索关键词: 光生伏打 元件 器件
【主权项】:
1、一种光生伏打元件,包括:包含非晶半导体或微晶半导体的半导体层;和由掺杂杂质的氧化铟膜构成的透明导电膜,所述透明导电膜设置在所述半导体层的光入射侧上,其中,所述透明导电膜的(222)晶面取向度不小于1.0。
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