[发明专利]相关累加法设计非均匀作用曲线无效
申请号: | 02136337.4 | 申请日: | 2002-08-01 |
公开(公告)号: | CN1472632A | 公开(公告)日: | 2004-02-04 |
发明(设计)人: | 韦占雄 | 申请(专利权)人: | 韦占雄 |
主分类号: | G06F7/00 | 分类号: | G06F7/00;G06F17/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 20005*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种普遍适用的算法,用于设计非均匀作用曲线如切趾光纤光栅制作中作用物紫外激光对被作用物光敏光纤作用即曝光,作用量即曝光量沿光纤轴向的非均匀分布曲线等。该算法把被作用物按精度分成很多等份,根据相关累加的原理推导出作用物在被作用物上的每一等份所能实现的作用量及相邻两等份之间作用量变化程度所必须满足的条件。根据算法推导出的条件,并结合设计的具体要求和实施作用的系统的性能,就可以设计出可充分利用系统性能、满足要求并能够被完全实现的高精度非均匀作用曲线。也可以根据算法的设计思路去建立恰当的实现非均匀作用曲线的系统,或是针对已有系统制定实现非均匀作用曲线的方案。 | ||
搜索关键词: | 相关 累加 设计 均匀 作用 曲线 | ||
【主权项】:
1.一种用于设计非均匀作用曲线的算法,其特征在于可广泛应用于多种领域,对多种形式的非均匀作用进行设计,具有普遍适用性。
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