[发明专利]透(反)射形可控的大啁啾光纤光栅的制作方法无效
申请号: | 02129307.4 | 申请日: | 2002-08-30 |
公开(公告)号: | CN1397813A | 公开(公告)日: | 2003-02-19 |
发明(设计)人: | 夏历;李栩辉;谢世钟 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G02B6/124 | 分类号: | G02B6/124 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100084 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 透(反)射形可控的大啁啾光纤光栅的制作方法属于光纤光栅制作技术领域,其特征在于它依次含有如下步骤在与一个特定波长相应的光纤上的有效长度内,用不同的曝光强度按扫描写入法制作多只光栅;测量并记录下这些曝光强度与透(反)射率的对应关系并据此建立数据库;根据用户提供的滤波器透射谱图及其它条件算出用户所需波长处用户所需透射率与曝光强度的关系,从而得到沿用户所需光栅长度方向上曝光强度的分布即对应于曝光时反射镜停留时间的分布;根据上述扫描写入法在控制反射镜处于不同位置时采用不同停留曝光时间的条件下制作出用户所需的大啁啾光纤光栅,其制作方便又灵活。 | ||
搜索关键词: | 可控 啁啾 光纤 光栅 制作方法 | ||
【主权项】:
1、透(反)射形可控的大啁啾光纤光栅的制作方法,它是一种结合相位模板法和连续激光器光源的特点的扫描写入法即光源经扫描仪上的反射镜反射照射在相位模板上,反射镜放置在扫描平移台上,光纤紧贴模板。宽光谱光源和光谱测试仪用以实时监测制作过程中光栅的透(反)射光谱变化,当扫描平移台带动反射镜运动进行扫描时,光纤上所受紫外曝光点的位置也随之改变使光纤在不同位置得到不同的曝光强度,以制作各种类型的光纤光栅。本发明的特征在于,它依次含有以下步骤:(1)在与一个特定波长相应的光纤上的有效长度范围内用不同的曝光强度即在光源输出功率恒定时,反射镜的不同停留时间内按上述扫描写入法连续制作得到多只光栅;(2)测量并记录下上述各种曝光强度即对应的停留时间和该有效长度内透(反)射率在数值上的一一对应关系。这个关系对于整个光栅带宽内任意波长都适用,据此建立数据库;(3)根据用户需要得到的滤波器透射谱图,得到制作用户所需光栅的制作条件:(3.1)在已知光栅长度L、光栅周期Λ、模板啁啾系数cg1和光纤有效折射率neff的条件下,用以下公式根据用户给出的滤波器透射谱图计算波长λ的模板扫描位置z的对应关系:λ=2*neff*(Λ+cg1z),其中-L/2≤z≤L/2;(3.2)根据用户给定的滤波器透射谱图中的透(反)射率利用插值法从上述数据库中反查得到反射率和耦合系数即曝光强度的关系;(3.3)由步骤(3.1)、(3.2)得到沿光栅长度方向曝光强度的分布情况,即在给定曝光量的条件下,模板扫描位置z与扫描仪上的反射镜在该位置上停留时间的关系;(4)根据步骤(3)得到的制作条件用上述扫描写入法制作出所需谱形的光纤光栅。
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