[发明专利]曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 02128690.6 | 申请日： | 2002-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN1475862A | 公开（公告）日： | 2004-02-18 |
| 发明（设计）人： | 林本坚 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘领弟 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种曝光装置及曝光方法。为提供一种降低制程成本、提高光罩上透明板光学性质、适用于短波长光源的半导体制造设备及方法，提出本发明，其曝光方法包括提供光罩，并将保护盖固定于光罩表面；将覆盖保护盖的光罩移入曝光准备室内部；于曝光准备室内部拆除保护盖；于曝光准备室内，将透明板覆盖于已拆除保护盖的光罩表面，以形成光罩组合；将光罩组合移入曝光室内，并设置于曝光室内的镜头与光源之间，令光源透过光罩组合及镜头进行曝光程序；曝光装置包括曝光准备室及曝光室；曝光准备室内设有用以覆盖于光罩表面形成光罩组合的透明板；曝光室内设有光源及设置于光源下方并形成容置光罩组合间距的镜头。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1、一种曝光方法，其特征在它包括：准备光罩提供光罩，并将保护盖固定于光罩表面；将光罩移入曝光准备室将覆盖保护盖的光罩移入曝光准备室内部；拆除保护盖于曝光准备室内部拆除保护盖；覆盖透明板于曝光准备室内，将透明板覆盖于已拆除保护盖的光罩表面，以形成光罩组合；曝光程序将光罩组合移入曝光室内，并设置于曝光室内的镜头与光源之间，令光源透过光罩组合及镜头进行曝光程序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02128690.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：可聚合组合物、阻剂及电子束平版印刷之方法
- 下一篇：光刻装置和器件的制造方法
