[发明专利]一种生产含有少量氧化钠的氧化铝的方法无效
| 申请号： | 02124660.2 | 申请日： | 2002-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN1429771A | 公开（公告）日： | 2003-07-16 |
| 发明（设计）人： | 高桥浩;近藤敦司 | 申请（专利权）人： | 住友化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C01F7/02 | 分类号： | C01F7/02;C01F7/46 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 黄力行 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提出了一种生产含少量氧化钠和少量硅石的氧化铝的方法。该方法包括将含有氧化钠的铝化合物与减少氧化钠的介质混合得到混合物的步骤，该减少氧化钠的介质含有硅石基材料和带有非硅石基陶瓷涂层的另一种硅石基材料，煅烧该混合物并将生成的氧化铝与减少氧化钠的介质分离。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 生产 含有 少量 氧化 氧化铝 方法 | ||
【主权项】：
1.一种生产氧化铝的方法，所述方法包括步骤：将含有氧化钠的铝化合物与减少氧化钠的介质混合得到混合物，所述减少氧化钠的介质含有硅石基材料和带有非硅石基陶瓷涂层的另一种硅石基材料；煅烧所述混合物；和将生成的氧化铝与所述减少氧化钠的介质分离。
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