[发明专利]电光装置和电子仪器有效

专利信息
申请号: 02118183.7 申请日: 2002-04-24
公开(公告)号: CN1383024A 公开(公告)日: 2002-12-04
发明(设计)人: 小桥裕 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02F1/133 分类号: G02F1/133;G02F1/136;G02F1/1335
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘宗杰,叶恺东
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供将制造成本的增大抑制到最小限度、可以将具有光扩散功能的光反射膜形成为最佳的状态的电光装置和具有该电光装置的电子仪器。在有源矩阵型的反射型或半透过半反射型的电光装置100中,在阵列基板10上,在光反射膜8a的表面,与基底保护膜11a、栅极绝缘膜2a、扫描线3a、第1层间绝缘膜4a、数据线6a、第2层间绝缘膜5a同层的薄膜形成由按指定的图形保留的凹凸形成用薄膜11g、2g、3g、4g、6g、5g的高低差和凹凸形成的凹凸图形8g,所以,可以将从对向基板20入射的光扩散,并向对向基板20反射。
搜索关键词: 电光 装置 电子仪器
【主权项】:
1.一种在夹持电光物质的基板上具有按各像素至少与1个或多个配线电气连接的象素开关用的有源元件和光反射膜的电光装置,其特征在于:在上述光反射膜的下层侧中与该光反射膜平面重叠的区域中,设置了与上述1个或多个配线和这些配线的层间或上层或下层形成的绝缘膜中的至少1层同层的薄膜按指定的图形有选择地形成的凹凸形成用薄膜和该凹凸形成用薄膜的非形成区域,在上述光反射膜的表面,利用上述凹凸形成用薄膜的形成区域和非形成区域形成凹凸图形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02118183.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top