[发明专利]具有干涉仪系统的曝光装置有效
| 申请号： | 02105045.7 | 申请日： | 2002-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN1371028A | 公开（公告）日： | 2002-09-25 |
| 发明（设计）人： | 高井亮;岩本和德 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 为了精确地测量曝光装置或类似装置中所用台式装置的位置与状态,应用干涉仪系统,以在振动影响上与上台(27)无关的镜筒支座(35)为基准,测量此上台的Z位置与位移此干涉仪系统包括用以将底版上形成的图案投影到衬底上的投影光学系统(34)、能够相对于投影光学系统(34)移动同时承载衬底或底版的台(27、31、40)、支承投影光学系统(34)的镜筒支座(35),同时利用设在Y台(31)上且具有大致平行干XY平面的反射面的Z测量反射镜以及设在Y台(31)上的Z干涉仪(25)。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 干涉仪 系统 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.曝光装置，它具有用以将底版上形成的图案投影到衬底上的投影光学系统、能够在相对于此投影光学系统移动的同时保持此衬底与底版两者中至少一个的台、支承此投影光学系统的镜筒支座，该曝光装置包括：干涉仪系统，此系统配备有利用装设在此台上且具有基本平行于XY平面的反射面的Z测量反射镜来测量此台相对于透镜转筒支座的Z位置与位移的干涉仪。
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