[发明专利]投影光学系统以及具备此投影光学系统的曝光装置无效
申请号: | 02103545.8 | 申请日: | 2002-02-07 |
公开(公告)号: | CN1374560A | 公开(公告)日: | 2002-10-16 |
发明(设计)人: | 铃木刚司 | 申请(专利权)人: | 尼康股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人: | 王学强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种投影光学系统,含有以萤石形成的透镜成份与以石英形成的透镜成份,将第1面的影像投影至第2面上的投影光学系统,此投影光学系统包括至少含有一个以萤石形成的透镜成份,具有正折射力的第1透镜群、配置于第1透镜群以及第2面之间的光路中,具有负折射力的第2透镜群、配置于第2透镜群以及第2面之间的光路中,具有正折射力的第3透镜群。以石英形成透镜成份的枚数为Snum,以萤石形成透镜成份的枚数为Cnum,投影光学系统的第2面侧的数值孔径为NA时,满足下列条件。Snum>CnumNA>0.7 | ||
搜索关键词: | 投影 光学系统 以及 具备 曝光 装置 | ||
【主权项】:
1.一种投影光学系统,含有一以萤石形成的透镜成份与一以石英形成的透镜成份,将一第1面的影像投影至一第2面上,其特征为:该投影光学系统包括:一第1透镜群,至少含有一个该以萤石形成的透镜成份,且该第1透镜群具有正折射力;一第2透镜群,配置于该第1透镜群以及该第2面之间的光路中,且该第2透镜群具有负折射力;以及一第3透镜群,配置于该第2透镜群以及该第2面之间的光路中,且该第3透镜群具有正折射力:其中该以石英形成的透镜成份的枚数为Snum,该以萤石形成的透镜成份的枚数为Cnum,该投影光学系统的该第2面侧的数值孔径为NA时,满足下列条件。Snum>CnumNA>0.7
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