[发明专利]确定非对称形状的电路结构的方法有效
申请号: | 01823090.3 | 申请日: | 2001-11-13 |
公开(公告)号: | CN1500200A | 公开(公告)日: | 2004-05-26 |
发明(设计)人: | B·辛格;M·K·坦普尔顿;B·兰加拉杰;R·苏布拉马尼杨 | 申请(专利权)人: | 先进微装置公司 |
主分类号: | G01B11/30 | 分类号: | G01B11/30;G01B11/24;G01B11/26;H01L21/66;G01N21/21;G01N21/47;G01N21/95 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 戈泊;程伟 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明关于用于在半导体制造期间探测在晶片上所形成的电路结构(82)非对称形状的方法(58)。该方法(58)包含有引导光束或辐射至电路结构(66)且探测与其相关的反射光束(68)。使与反射光束相关的数据和与已知电路结构形状(19)相关的数据相关连以便确定与有关的电路结构相关的形状特性(192)。利用此形状特性,可决定电路结构的非对称性(192),然后利用此非对称性产生反馈或前馈处理控制数据(200)以便在其后的工艺中补偿或校正此非对称性。 | ||
搜索关键词: | 确定 对称 形状 电路 结构 方法 | ||
【主权项】:
1.一种电路结构形状(87、94)之非对称性的探测方法(58),包含有:引导(66)通常是在电路结构(82)的第一侧边(87)的照射的入射光束(86);探测(68)与电路结构(82)的第一侧边(87)相关的第一反射光束(90);引导(66)通常是在电路结构(82)的第二侧边(94)的照射的入射光束(93);探测(72)与电路结构(82)的第二侧边(94)相关的第二反射光束(100);利用所探测的第一反射光束(90)和第二反射光束(100)决定电路结构(82)的非对称性(74)。
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