[发明专利]含有重复吡咯单元的聚合物溶液的制备方法、用该方法制备的溶液及其用途无效

专利信息
申请号: 01819775.2 申请日: 2001-10-20
公开(公告)号: CN1503817A 公开(公告)日: 2004-06-09
发明(设计)人: 托马斯·古思;于尔根·帕夫利克;赖纳·蒂芬施塔特尔;彼得·布伦德尔;弗劳克·约尔特 申请(专利权)人: 赛拉尼斯温特斯股份有限公司
主分类号: C08G73/18 分类号: C08G73/18;C08G73/22;C08G75/32;H01M8/10
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 丁业平;王维玉
地址: 德国法*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及含有重复吡咯单元的聚合物溶液的制备方法,所述方法包括在惰性气体气氛、高于室温的温度下,在具有足够低的含水量的N,N-二甲基乙酰胺中溶解含有通式(1)或(2)所示重复吡咯单元的充分干燥的聚合物,其中,基团Ar、Ar1和Ar2是四价、二价或三价芳族基团或芳族杂环基团,以及在重复单元内相同的基团X各是氧原子、硫原子或胺基,所述胺基含有氢原子或含1-20个碳原子的基团,优选有支链或无支链的烷基或烷氧基或芳基另作为其基团,其中使用含有通式(1)或(2)的重复吡咯单元的充分干燥的聚合物,占含有重复吡咯单元的聚合物的总重量90%重量的聚合物具有低于1mm的粒径。
搜索关键词: 含有 重复 吡咯 单元 聚合物 溶液 制备 方法 及其 用途
【主权项】:
1.一种含有重复吡咯单元的聚合物溶液的制备方法,所述方法包括在惰性气体气氛、高于室温的温度下,在具有足够低的含水量的N,N-二甲基乙酰胺中溶解含有下列通式(1)或(2)所示重复吡咯单元的充分干燥的聚合物:其中基团Ar、Ar1和Ar2是四价、二价或三价芳族基团或芳族杂环基团,以及在重复单元内相同的基团X各是氧原子、硫原子或胺基,所述胺基含有氢原子或含1-20个碳原子的基团,优选有支链或无支链的烷基或烷氧基或芳基另作为其基团,其中使用含有通式(1)或(2)所示重复吡咯单元的充分干燥的聚合物,其中占含有重复吡咯单元的聚合物总重量90%重量的聚合物的粒径低于1毫米。
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