[发明专利]制作平滑的对角组件的数字光刻系统有效
| 申请号： | 01816781.0 | 申请日： | 2001-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN1468406A | 公开（公告）日： | 2004-01-14 |
| 发明（设计）人： | 梅文惠;金武隆 | 申请（专利权）人： | 鲍尔半导体公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了一种数字光刻系统，该系统能够制备光滑的对角组件(图2)。该系统包括一个计算机，用于将第一数字图案提供给数字象素板，如可变形的反射镜装置(DMD)。DMD能够将多个用于曝光的象素元提供到多个芯片地点(图3b)。曝光之后，芯片可以被扫描一个短于长度的距离。然后DMD接收第二数字图案，用于把多个第二象素元曝光到目标主体的多个地点上。曝光的多个第二象素元重叠曝光的多个第一象素元(图4b)。这种重叠允许在曝光的图象中进行增加变化，由此调节对角组件的建立。 | ||
| 搜索关键词： | 制作 平滑 对角 组件 数字 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于在目标主体上进行数字光刻的系统，包括：一个象素板，用于由一个数字图象产生第一象素元；一个点阵，用于把第一象素元聚焦到目标主体的第一地点以进行曝光；和重新定位装置，用于相对于所述象素板而移动所述目标主体，从而使得一个第二象素元与第一地点对准；由此所述点阵将第二象素元曝露在目标主体的第一地点上以进行曝光，从而使从第二象素元的曝光覆盖第一象素元的曝光的一部分但非全部。
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