[发明专利]甲烷二苯基二胺和其具有受控异构体分布的高级同系物的混合物的合成方法无效

专利信息
申请号: 01815214.7 申请日: 2001-09-07
公开(公告)号: CN1620418A 公开(公告)日: 2005-05-25
发明(设计)人: A·迪安吉利斯;C·弗莱戈;O·法里亚斯;A·博塞蒂 申请(专利权)人: 陶氏环球技术公司
主分类号: C07C209/54 分类号: C07C209/54;C07C209/78;C07C211/50
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 程伟;彭益群
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及使用具有“形状选择性”的硅烷化沸石制备甲烷二苯基二胺(MDA)或甲烷二苯基二胺(MDA)和具有受控异构体分布的它的高级同系物的混合物的方法。混合物包含具有如下通式(I)的化合物:其中R表示氢原子或C1-C8 (异)烷基、C4-C10环烷基或C6-C12芳族基团并且n是大于或等于1的整数以得到2-6的官能度。
搜索关键词: 甲烷 苯基 具有 受控 异构体 分布 高级 同系物 混合物 合成 方法
【主权项】:
1.一种制备甲烷二苯基二胺或甲烷二苯基二胺和其具有通式(I)的高级同系物的混合物的方法:其中R独立地选自氢、C1-C8烷基、C4-C10环烷基并C6-C12芳族基团并且n是大于或等于1的整数,适宜地从1到5以得到2-6的官能度,该方法包括在以酸形式的沸石存在下进行具有通式(II)的中间体的重排反应:该沸石的“宽广度指数”为2.5-19,在表面上由一种或多种通式为Si(OX)4或SiX4的有机硅化合物改性,其中X独立地表示任选被一个或多个卤素原子取代的C1-C20烷基、C4-C20环烷基、或C6-C20芳族或烷基-芳族基团,该沸石已被煅烧。
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