[发明专利]感应耦合的等离子体腐蚀装置有效
申请号: | 01807390.5 | 申请日: | 2001-03-28 |
公开(公告)号: | CN1484849A | 公开(公告)日: | 2004-03-24 |
发明(设计)人: | 中嵨州 | 申请(专利权)人: | 拉姆研究公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种感应耦合等离子体腐蚀装置包括用于在其内产生等离子体的室(100)。室(100)由一个外壳的壁限定。接收高频(RF)功率的线圈(313)靠近并设置在外壳的一个壁(101)的外部。金属板(217)靠近并设置在与线圈(313)相邻的外壳壁(101)的外部。金属板(217)以一定的间距设置在线圈(313)和外壳的壁(101)之间,并且其内形成有横向地延伸到线圈(313)的径向槽。连接器(207)将金属板(217)电连接到线圈(313)。还介绍了一种控制用于限定产生等离子体的室的一个壁的内表面的方法。 | ||
搜索关键词: | 感应 耦合 等离子体 腐蚀 装置 | ||
【主权项】:
1.一种感应耦合等离子体腐蚀装置,包括:用于在其内产生等离子体的室,该室由一个外壳的壁限定;用于接收高频(RF)功率的线圈,靠近并设置在外壳的一个壁的外部;金属板,靠近并设置在与线圈相邻的外壳壁的外部,金属板以一定的间距设置在线圈和外壳的该壁之间,并且其内形成有横向地延伸到线圈的径向槽;并且连接器,将金属板电连接到线圈。
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