[发明专利]制备聚合物的方法、制备化合物的方法,化合物、聚合物,以及制造电子器件的方法

摘要

按照一种新方法制备了包含式(I)结构单元的聚合物,其中起始化合物R1’S－(CHR’2)－Ar－(CHR2)－SR1用碱聚合,优选在非质子溶剂中进行。所述聚合物包含50至1000个式(I)的结构单元。包含如此制备的所述聚合物的溶液与具有较大链长的类似聚合物的溶液相比具有较低粘度。包含如此制备的聚合物的所述溶液可以在基材上作为层施涂。具有用本发明的聚合物制备的层的电子元件显示较好的性能。

主权项

1.一种制备聚合物的方法，该聚合物包含式I的结构单元，式中：Ar是具有4至20个碳原子的芳族环状体系，其可以被选自以下的取代基取代：非支化的C1-C20烷基，C3-C20烷氧基，C1-C20烷基硫酸盐，支化的C3-C20烷基，苯基或苄基基团，并且其在所述芳族环状体系中可以包含最多4个选自氧，硫和氮的杂原子，t等于0，1或2，R1选自非支化的C1-C20烷基，支化的C3-C20烷基，环状C4-C20烷基，C1-C4烷基取代的环状C4-C20烷基、苯基和苄基基团，该基团可以包含杂原子，R2和R”2选自氢原子和C1-C20烷基和C4-C20芳基基团，该基团可以包含取代基，其特征在于所述方法起始于具有式II的化合物在该式中R’1选自非支化的C1-C20烷基，支化的C3-C20烷基，环状烷基，C1-C4烷基取代的环状烷基，苯基和苄基基团，该基团可以包含杂原子，R1、R2和Ar等于式I中的R1、R2和Ar，和R’2选自氢原子和C1-C20烷基和C4-C20芳基基团，该基团可以包含取代基，并且所述具有式I结构单元的聚合物通过以下步骤制备：通过借助于碱的聚合制备出包含式III单元的聚合物在该式中R1、R2和Ar等于式II中的R1、R2和Ar，并且R”2选自R2和R’2，和通过所述具有式III的聚合物的至少大量单元的氧化，制备具有式I单元的聚合物，在该式中t等于1或2。