[发明专利]光学记录介质的保护膜和光学记录介质无效

专利信息
申请号: 01801501.8 申请日: 2001-03-29
公开(公告)号: CN1381046A 公开(公告)日: 2002-11-20
发明(设计)人: 内山昭彦;串田尚;辻仓正一 申请(专利权)人: 帝人株式会社
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;C08J5/18;//C08L10100;6900
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 庞立志,王其灏
地址: 日本大阪*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 用于光学记录介质的光保护涂层,其特征在于它包含透明膜的一个片材,所述膜包含热塑性树脂,在550nm波长处具有不大于15nm的相差和在550nm波长处不大于40nm的K值,具有120℃或以上的玻璃化转变温度和不大于1wt%的吸水率。其中K=[nz-(nx+ny)/2]×d,其中nx、ny和nz分别是透明膜在x轴、y轴和z轴方向上的三维折射率,和d是透明膜的厚度。任选地,本发明的特征还在于,包括衬底和在衬底上的数据记录层和上述保护膜,其中光是从保护膜一侧入射的。
搜索关键词: 光学 记录 介质 保护膜
【主权项】:
1.光学记录介质保护膜,其特征在于它是由热塑性树脂制得的单层透明膜,具有120℃或以上的玻璃化转变温度和不大于1wt%的吸水率,和具有同时满足以下不等式(1)和(2)的在550nm波长处的延迟,|R(550)|≤15nm(1)|K(550)|≤40nm(2)其中R(550)是在550nm波长下透明膜的面内延迟和K(550)是在550nm波长下透明膜的由K=[nz-(nx+ny)/2]×d计算的值,其中nx、ny和nz分别是该透明膜在x轴、y轴和z轴方向上的三维折射率,和d是透明膜的厚度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于帝人株式会社,未经帝人株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/01801501.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top