[发明专利]光学记录介质的保护膜和光学记录介质无效

专利信息
申请号: 01801501.8 申请日: 2001-03-29
公开(公告)号: CN1381046A 公开(公告)日: 2002-11-20
发明(设计)人: 内山昭彦;串田尚;辻仓正一 申请(专利权)人: 帝人株式会社
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;C08J5/18;//C08L10100;6900
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 庞立志,王其灏
地址: 日本大阪*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 记录 介质 保护膜
【权利要求书】:

1.光学记录介质保护膜,其特征在于它是由热塑性树脂制得的单层透明膜,具有120℃或以上的玻璃化转变温度和不大于1wt%的吸水率,和具有同时满足以下不等式(1)和(2)的在550nm波长处的延迟,

|R(550)|≤15nm                 (1)

|K(550)|≤40nm                 (2)其中R(550)是在550nm波长下透明膜的面内延迟和K(550)是在550nm波长下透明膜的由K=[nz-(nx+ny)/2]×d计算的值,其中nx、ny和nz分别是该透明膜在x轴、y轴和z轴方向上的三维折射率,和d是透明膜的厚度。

2.根据权利要求1的光学记录介质保护膜,其中在450nm和550nm波长下的延迟满足(A)下面不等式(3)和(4),(B)下面不等式(3),或(C)下面不等式(4),

     R(450)/R(550)<1             (3)

     K(450)/K(550)<1             (4)其中R(450)和R(550)是分别在450nm和550nm波长下透明膜的面内延迟,而K(450)和K(550)是分别在450nm和550nm波长下透明膜的由K=[nz-(nx+ny)/2]×d计算的值,其中nx、ny和nz是分别在x轴、y轴和z轴方向上透明膜的三维折射率,和d是透明膜的厚度。

3.根据权利要求2的光学记录介质保护膜,其中随着波长更短,在380-550nm波长范围中透明膜的面内延迟更低。

4.根据权利要求1的光学记录介质保护膜,它包含透明膜

(1)该透明膜是由包含具有正折射率各向异性的聚合物的单体单元(下文称作“第一单体单元”)和具有负折射率各向异性的聚合物的单体单元(下文称作“第二单体单元”)的聚合物制得的膜;

(2)其中基于第一单体单元的聚合物的R(450)/R(550)小于基于第二单体单元的聚合物的R(450)/R(550);和

(3)该透明膜具有正折射率各向异性。

5.根据权利要求1的光学记录介质保护膜,它包含透明膜

(1)该透明膜是由包含形成具有正折射率各向异性的聚合物的单体单元(下文称作“第一单体单元”)和形成具有负折射率各向异性的聚合物的单体单元(下文称作“第二单体单元”)的聚合物制得的膜;

(2)其中基于第一单体单元的聚合物的R(450)/R(550)大于基于第二单体单元的聚合物的R(450)/R(550);和

(3)所述透明膜具有负折射率各向异性。

6.根据权利要求1的光学记录介质保护膜,其中透明膜的厚度不均匀性是不大于1.5μm。

7.根据权利要求1的光学记录介质保护膜,其中所述透明膜包含具有芴骨架的聚碳酸酯。

8.根据权利要求6的光学记录介质保护膜,其特征在于透明膜是由聚碳酸酯共聚物和/或共混物制造的透明膜,该聚碳酸酯共聚物和/或共混物包含10-90mol%的由下式(I)表示的重复单元其中R1-R8各自独立地表示选自氢、卤素和具有1-6个碳原子的烃的至少一种,和X是和90-10mol%由下式(II)表示的重复单元:其中R9-R16各自独立地表示选自氢、卤素和具有1-22个碳原子的烃的至少一种,和Y是下式当中的一种其中R17-R19、R21和R22各自独立地表示选自氢、卤素和具有1-22个碳原子的烃的至少一种,R20和R23各自独立地表示选自具有1-20个碳原子的烃的至少一种,以及Ar1、Ar2和Ar3各自独立地表示具有6-10个碳原子的芳基的至少一种。

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