[发明专利]光学记录介质的保护膜和光学记录介质无效
申请号: | 01801501.8 | 申请日: | 2001-03-29 |
公开(公告)号: | CN1381046A | 公开(公告)日: | 2002-11-20 |
发明(设计)人: | 内山昭彦;串田尚;辻仓正一 | 申请(专利权)人: | 帝人株式会社 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;C08J5/18;//C08L10100;6900 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 庞立志,王其灏 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 记录 介质 保护膜 | ||
1.光学记录介质保护膜,其特征在于它是由热塑性树脂制得的单层透明膜,具有120℃或以上的玻璃化转变温度和不大于1wt%的吸水率,和具有同时满足以下不等式(1)和(2)的在550nm波长处的延迟,
|R(550)|≤15nm (1)
|K(550)|≤40nm (2)其中R(550)是在550nm波长下透明膜的面内延迟和K(550)是在550nm波长下透明膜的由K=[nz-(nx+ny)/2]×d计算的值,其中nx、ny和nz分别是该透明膜在x轴、y轴和z轴方向上的三维折射率,和d是透明膜的厚度。
2.根据权利要求1的光学记录介质保护膜,其中在450nm和550nm波长下的延迟满足(A)下面不等式(3)和(4),(B)下面不等式(3),或(C)下面不等式(4),
R(450)/R(550)<1 (3)
K(450)/K(550)<1 (4)其中R(450)和R(550)是分别在450nm和550nm波长下透明膜的面内延迟,而K(450)和K(550)是分别在450nm和550nm波长下透明膜的由K=[nz-(nx+ny)/2]×d计算的值,其中nx、ny和nz是分别在x轴、y轴和z轴方向上透明膜的三维折射率,和d是透明膜的厚度。
3.根据权利要求2的光学记录介质保护膜,其中随着波长更短,在380-550nm波长范围中透明膜的面内延迟更低。
4.根据权利要求1的光学记录介质保护膜,它包含透明膜
(1)该透明膜是由包含具有正折射率各向异性的聚合物的单体单元(下文称作“第一单体单元”)和具有负折射率各向异性的聚合物的单体单元(下文称作“第二单体单元”)的聚合物制得的膜;
(2)其中基于第一单体单元的聚合物的R(450)/R(550)小于基于第二单体单元的聚合物的R(450)/R(550);和
(3)该透明膜具有正折射率各向异性。
5.根据权利要求1的光学记录介质保护膜,它包含透明膜
(1)该透明膜是由包含形成具有正折射率各向异性的聚合物的单体单元(下文称作“第一单体单元”)和形成具有负折射率各向异性的聚合物的单体单元(下文称作“第二单体单元”)的聚合物制得的膜;
(2)其中基于第一单体单元的聚合物的R(450)/R(550)大于基于第二单体单元的聚合物的R(450)/R(550);和
(3)所述透明膜具有负折射率各向异性。
6.根据权利要求1的光学记录介质保护膜,其中透明膜的厚度不均匀性是不大于1.5μm。
7.根据权利要求1的光学记录介质保护膜,其中所述透明膜包含具有芴骨架的聚碳酸酯。
8.根据权利要求6的光学记录介质保护膜,其特征在于透明膜是由聚碳酸酯共聚物和/或共混物制造的透明膜,该聚碳酸酯共聚物和/或共混物包含10-90mol%的由下式(I)表示的重复单元其中R1-R8各自独立地表示选自氢、卤素和具有1-6个碳原子的烃的至少一种,和X是和90-10mol%由下式(II)表示的重复单元:其中R9-R16各自独立地表示选自氢、卤素和具有1-22个碳原子的烃的至少一种,和Y是下式当中的一种其中R17-R19、R21和R22各自独立地表示选自氢、卤素和具有1-22个碳原子的烃的至少一种,R20和R23各自独立地表示选自具有1-20个碳原子的烃的至少一种,以及Ar1、Ar2和Ar3各自独立地表示具有6-10个碳原子的芳基的至少一种。
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