[实用新型]双坩埚区熔连续漏注装置无效
| 申请号： | 01271789.4 | 申请日： | 2001-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN2518873Y | 公开（公告）日： | 2002-10-30 |
| 发明（设计）人： | 任兵;崔承甲;沈永宏;刘占国;段安峰;王宇 | 申请（专利权）人： | 长春奥普光电技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B13/14 | 分类号： | C30B13/14 |
| 代理公司： | 长春科宇专利代理有限责任公司 | 代理人： | 梁爱荣 |
| 地址： | 130031 吉林省*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及光学、玻璃材料制备,采用双坩埚连续区熔漏注装置包括上坩埚、加热器件、漏注部件、下坩埚、保温层、炉壳、温控系统、加热电源、真空机组、热电偶、真空管道,背景技术产物占坩埚容积的60%,尺寸较小;本实用新型产物占下坩埚容积的90%,尺寸较大;在加热部件处小范围内加强保温,减少散热面积,提高加热效率,减轻对坩埚整体范围的保温要求,降低设计难度;单产量大幅度提高的同时热量损耗减小,周期基本不变,降低成本和单位产品的消耗;实现连续生产,减少单坩埚生产带来的周期性的拆装、预热等不便和人工、工时的浪费。适用于熔烧各种材料,特别适用于多晶光学材料的熔炼制备。 | ||
| 搜索关键词： | 坩埚 连续 装置 | ||
【主权项】：
1、双坩埚区熔连续漏注装置包括有：加热器件2、保温层5、炉壳7、温控系统8、加热电源9、真空机组10、热电偶11、真空管道12，炉壳7与真空机组10用真空管道12连接，温控系统8的引线与炉壳7内的热电偶11连接，温控系统8与加热电源9之间用控制线连接，在炉壳7本体电极的两端分别与加热电源9和加热器件2连接，其特征在于：在炉壳7内部安置有上坩埚1、加热器件2、漏注部件3、下坩埚4、保温层5、保温层6、热电偶11，在上坩埚1的底侧装有漏注部件3，在漏注部件3的外部置有加热器件2，在加热器件2的外部置有保温层6，漏注部件3的下部置于下坩埚4的上方。
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