[实用新型]双坩埚区熔连续漏注装置无效
| 申请号： | 01271789.4 | 申请日： | 2001-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN2518873Y | 公开（公告）日： | 2002-10-30 |
| 发明（设计）人： | 任兵;崔承甲;沈永宏;刘占国;段安峰;王宇 | 申请（专利权）人： | 长春奥普光电技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B13/14 | 分类号： | C30B13/14 |
| 代理公司： | 长春科宇专利代理有限责任公司 | 代理人： | 梁爱荣 |
| 地址： | 130031 吉林省*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 坩埚 连续 装置 | ||
【权利要求书】：
1、双坩埚区熔连续漏注装置包括有：加热器件2、保温层5、炉壳7、温控系统8、加热电源9、真空机组10、热电偶11、真空管道12，炉壳7与真空机组10用真空管道12连接，温控系统8的引线与炉壳7内的热电偶11连接，温控系统8与加热电源9之间用控制线连接，在炉壳7本体电极的两端分别与加热电源9和加热器件2连接，其特征在于：在炉壳7内部安置有上坩埚1、加热器件2、漏注部件3、下坩埚4、保温层5、保温层6、热电偶11，在上坩埚1的底侧装有漏注部件3，在漏注部件3的外部置有加热器件2，在加热器件2的外部置有保温层6，漏注部件3的下部置于下坩埚4的上方。
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