[发明专利]成膜方法和成膜装置无效

专利信息
申请号: 01140673.9 申请日: 2001-09-20
公开(公告)号: CN1347137A 公开(公告)日: 2002-05-01
发明(设计)人: 江间达彦;伊藤信一 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;H01L21/30;G03F7/16
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王杰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了成膜方法和成膜装置,液状膜形成部分由保护膜滴液喷嘴102和使该保护膜滴液喷嘴102沿y方向移动的喷嘴移动机构以及设置在直径200mm的被处理基板110上的使被处理基板110沿x方向移动的被处理基板移动台构成。液状膜干燥部分由吸嘴101和与吸嘴101相连的真空泵103构成。另外,被处理基板移动台也是构成液状膜干燥部分的一部分。利用上述成膜方法及装置,可以抑制涂膜的膜厚不均现象,缩短形成涂膜所需的时间。
搜索关键词: 方法 装置
【主权项】:
1、一种成膜方法,包括液状膜形成工艺和干燥工艺,其中的液状膜形成工艺是与被处理基板相对,在基板上调整至一定量展开,从滴液喷嘴滴下在溶剂中添加了固形成分的药液,使前述滴液喷嘴与前述被处理基板相对移动,在前述被处理基板整个面上形成液状膜的工艺,其中的干燥工艺是为了除去前述液状膜中的溶剂形成涂膜的工艺,其中,前述干燥工艺的进行是在前述被处理基板上与该液状膜表面不接触的距离配置吸嘴,该吸嘴与该被处理基板相对移动,同时前述吸嘴正下方的溶剂氛围气从该吸嘴的吸气口被吸走。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/01140673.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top